一、 公司成立
南轩（天津）科技有限公司--原称北京南轩兴达电子科技有限公司，注册成立于2009年，因业务发展需要与公司规模扩大，于2017年10月搬迁至天津宝坻更名为南轩（天津）科技有限公司。南轩（天津）科技有限公司是一家致力于研发、生产、销售及服务为一体的湿法制程设备企业。
二、 人才队伍
公司现有厂房占地面积约12000㎡，其中办公区面积1200㎡，洁净间面积500㎡，研发区面积500㎡；公司自成立至今，拥有研发专利30余项、先后获得了国高新技术企业、天津市雏鹰企业、天津市瞪羚企业等荣誉称号，并且已经通过ISO9001质量体系认证。公司配备独立专业的研发团队、日本清洗专家和一批经验丰富的专业技术人才，能够为客户提供全套清洗设备解决方案。
三、 主要经营业务
公司主要经营产品有4-12吋槽式湿法制程设备以及化学自动供液系统；应用范围涵盖了元素半导体（Si Ge）、化合物半导体（GaAs InP GaP）、宽禁带半导体（SiC GaN）及其他泛半导体行业所需的湿法清洗工艺需求，包含光刻胶去除、金属腐蚀、氧化物刻蚀、炉前清洗以及颗粒物去除等。
四、 公司经营理念
我们相信设计质量＋物料质量＋生产质量＝设备质量。我们着重于所有设备与开发新产品相关的各项钻研，如设备定位及功能设计、零件挑选、设备测试及环境考虑等，且不断坚持对于质量的重视与创新的开发。
五、 公司发展
目前，公司已经持稳步上升发展趋势，积累了很多长期合作的客户。公司拟以设备稳定运行核心技术为基础，全面进入湿法清洗技术的研发与生产，更好的满意于客户的生产需求，更贴合客户的生产工艺。
六、公司愿景
本公司专注于高品质的湿法清洗设备的研发与生产，竭诚为广大客户提供**质的服务，立足于国内外市场。